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    1月15日，星期六。

    合痩市。

    乘坐高鐵的衛(wèi)明，來到了這座城市。

    為此他特意跟樊姐請了兩天假，提前處理了三十多名結(jié)石病人，合計騰出了三天時間，就為了解決掉一個問題。

    人才！

    高端光刻機(jī)的研發(fā)人才。

    而且衛(wèi)明已經(jīng)有了明確的招募目標(biāo)，他認(rèn)為的最合適最優(yōu)秀的人才，就在合瘦市這邊。

    此人名叫蒲偉才。

    衛(wèi)明是在網(wǎng)上查找相關(guān)信息的過程中，看到了多條關(guān)于此人的新聞。

    也注意到此人帶領(lǐng)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)，取得的跟光刻機(jī)相關(guān)的多項(xiàng)研究成果，明白了此人的牛叉之處。

    因?yàn)檫@些天衛(wèi)明也在大力學(xué)習(xí)一些跟光刻機(jī)相關(guān)的知識，了解到了EUV光刻機(jī)的幾大核心技術(shù)。

    一個，組裝。

    光刻機(jī)最重要的技術(shù)之一是組裝，就是把所有的元件組裝起來，然后使分辨率達(dá)到最高，同時套刻精度達(dá)到最佳。

    比如機(jī)器內(nèi)部溫度的變化要控制在千分之五度，得有合適的冷卻方法，精準(zhǔn)的測溫傳感器。一臺光刻機(jī)中，包含十幾個分系統(tǒng)，幾萬個機(jī)械件，數(shù)百個的傳感器，每一個都要穩(wěn)定。

    二，控制。

    光刻機(jī)是制造業(yè)內(nèi)對精密性要求最高的產(chǎn)品。光刻的原理就像在米粒大小的面積上，雕刻納米級大小的文字，對于誤差的要求可想而知。

    比如光刻機(jī)里有2個同步運(yùn)動的工件臺，一個載底片，一個載膠片。兩者需始終同步，誤差在2納米以下。兩個工作臺由靜到動，加速度跟導(dǎo)彈發(fā)射差不多。

    三，光源。

    制造EUV需要極高的能量。EUV能被空氣吸收，所以光刻環(huán)節(jié)必須耗電保持真空環(huán)境。更夸張的是，EUV還能被透鏡吸收，所以只能用十幾次面透鏡，通過不斷反射將光源集中。

    每反射1次，EUV的能量就會損失3成。十幾次反射后，到達(dá)晶圓的光線理論上只剩下2%。從能連趕上看，寒國某半導(dǎo)體企業(yè)曾經(jīng)說過，極紫外光EUV的能源轉(zhuǎn)換效率只有0.02%左右。

    四、鏡頭。
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