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    EUV光源的技術(shù)基本只掌握在花旗國    Cymer公司手中，星光科技公司作為一家華夏公司，基本上不可能與対方達(dá)成技術(shù)合作，因?yàn)榛ㄆ靽筒粫狻?

    EUV光刻機(jī)——頂級科學(xué)與頂級制造的結(jié)合。

    EUV波長只有13.5nm，穿透物體時散射吸收強(qiáng)度較大，這使得光刻機(jī)的光源功率要求極高，此外機(jī)器內(nèi)部需是真空環(huán)境，避免空氣對EUV的吸收，透鏡和反射鏡系統(tǒng)也極致精密，配套的抗蝕劑和防護(hù)膜的良品率也需要更先進(jìn)技術(shù)去提升。

    一臺EUV光刻機(jī)重達(dá)180噸，超過10萬個零件，需要40個集裝箱運(yùn)輸，安裝調(diào)試都要超過一年時間。總之，EUV光刻機(jī)幾乎逼近物理學(xué)、材料學(xué)以及精密制造的極限。

    所以EUV不僅是頂級科學(xué)的研究，也是頂級精密制造的學(xué)問。

    二零一零年首發(fā)EUV光刻機(jī)，目前成為全球唯一一家EUV光刻機(jī)供應(yīng)商。

    二零一零年，阿斯慢首次發(fā)售概念性的EUV光刻系統(tǒng)NXW:3100，從而開啟光刻系統(tǒng)的新時代。

    二零一三年，阿斯慢發(fā)售第二代EUV系統(tǒng)NXE:3300B，但是精度與效率不具備10納米以下制程的生產(chǎn)效益。

    今年又推出了第三代EUV系統(tǒng)NXE:3350，但仍然只是試產(chǎn)的性質(zhì)。

    歷史上，阿斯慢公司要到明年，也就是二零一六年，第一批面向制造的EUV系統(tǒng)NXE:3400B，才會開始批量發(fā)售，

    NXE:3400B的光學(xué)與機(jī)電系統(tǒng)的技術(shù)有所突破，極紫外光源的波長縮短至13nm，每小時處理晶圓125片，或每天可1500片。

    連續(xù)4周的平均生產(chǎn)良率可達(dá)80%，兼具高生產(chǎn)率與高精度。

    三年后推出的NXE:3400C，更是將產(chǎn)能提高到每小時處理晶圓175片。

    目前，阿斯慢在售的EUV光刻機(jī)包括NXE:3300B和NXE:3400C兩種機(jī)型。

    EUV成功來源于阿斯慢光刻機(jī)上游產(chǎn)業(yè)鏈的貫通。
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