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    別人費盡心思幫忙省錢，蘇業豪總不能不領情。

    雖然自己組建生產線需要耽誤一段時間，可既然已經比良想集團慢了許多年，早一點或者遲一點，也就無所謂了。

    這支團隊最近在島上，主要負責談零部件的采購事宜，過來十多天，基本談得差不多。

    接下來還要去一趟曰本，那邊的半導體產業也挺發達，尼康和佳能這兩家公司依然是光刻機行業的主流，倪老先生希望過去參觀一下。

    早些年時候。

    國內光刻機并不算太差，1980年就有大學研制出第四代分部式投影光刻機，光刻精度達到三微米，接近國際主流水平。

    而那時，光刻機巨頭asml還沒誕生。

    后來研發更先進的光刻機的門檻慢慢增加，對資金方面的需求也越來越多。

    因為種種原因，現如今國內的半導體行業已經徹底落后，尤其是尖端半導體，排在前列的公司名單里，幾乎看不到內地企業的身影。

    倪老先生從那個年代過來，看看良想每年采購花掉多少錢，再看看國產零部件占比究竟有多少，就知道不能再繼續坐視不理。

    到了這年紀，對物質方面沒什么追求，只想盡快迎頭追趕，避免進一步落后。

    吃飯期間。

    見倪老想去參觀尼康和佳能的光刻機生產線，蘇業豪這時候點點頭，告訴說：

    “行吧，如果以客戶身份登門，應該沒什么問題。我從資料上看見過，現在光刻機卡在193納米的技術門檻上，如果能押對下一代技術，是不是有希望彎道超車？”

    席間喝了點原住民自釀的紅棗米酒，這玩意兒喝起來很舒服，可一杯接一杯沒個準數，一不小心就多了，也挺上頭。

    倪老面色微紅，聽完笑著開口：

    “理論上是這樣，不過現在誰都不清楚出路究竟在哪。”

    “我看過一些相關的論文，目前市場上主流的研發思路，都是在157nm的干式光刻技術路徑上，佳能、尼康都在往這方面嘗試。”

    “另外，還有一項新的理論挺有意思，一位華裔越南科學家叫做林寶堅，他提出用水作為曝光介質，光源波長還是用原來的193nm，但通過水的折射，讓進入光阻的波長縮小到134nm，起名叫做浸沒式，我在雜志上看見過。”
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