第(1/3)頁(yè) 巴掌大小的陣陣胚,晶瑩剔透,光澤明亮。 江川對(duì)自己第一次出手煉制成功的陣胚非常滿意。 “這件陣胚,能承受刻畫陣紋失敗十次以內(nèi),絕對(duì)沒(méi)有問(wèn)題。” 江川仔細(xì)研究后,做出判斷。 然后休息片刻,江川再次開始煉制第二個(gè)陣胚。 隨著煉制,江川手法越來(lái)越熟練,可也因?yàn)榇笠馐∫淮巍? 江川也不氣餒,總結(jié)經(jīng)驗(yàn),再接再厲,陣胚的品色越來(lái)越高。 天色漸晚,江川終于煉制完成。 “兩個(gè)防御陣胚,成了。” “一套困陣陣胚,八個(gè)成了七個(gè),損壞一個(gè),不過(guò)七個(gè)困陣陣胚照樣可以布置困陣。” 休息一個(gè)時(shí)辰后,江川開始刻畫陣紋。 在陣胚上刻畫陣紋很難,是陣法學(xué)習(xí)的主要難點(diǎn)所在。 而刻畫陣紋如果失敗,還會(huì)對(duì)陣胚造成損傷,失敗次數(shù)達(dá)到陣胚的承受上限,陣胚就會(huì)碎裂。 “防御陣盤,我需要刻畫十三個(gè)不同的二階陣紋。” “十三個(gè)陣紋,我失敗次數(shù)最好控制在十次以內(nèi)。” 江川一手拿著陣胚,一手指尖處流出如針細(xì)的法力細(xì)絲。 隨著江川指尖接觸陣胚,開始在陣胚上刻畫復(fù)雜的紋路。 “啵!” 一聲輕響,陣紋剛刻畫到一小半,就因?yàn)榉敵霾环€(wěn),而失敗了。 “速度沒(méi)控制住,再來(lái)!” 江川知道所有步驟,有了大量的記憶,江川刻畫起來(lái),也不生疏,只是第一次刻畫,心急了些。 江川反醒后,再次開始刻畫。 經(jīng)歷八次失敗,在陣胚光芒有些暗淡后,第九次刻畫成功。 一個(gè)二階防御陣盤煉制成功。 江川不顧疲憊,迫不及待的往陣盤中注入法力。 第(1/3)頁(yè)