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    “怎么可能！”

    各大晶圓廠難以置信。

    阿斯麥也同樣感到了匪夷所思。

    安布雷拉設計出14nm的芯片是沒有任何人懷疑。

    現在大家用的eda可都是他們優化的。

    可特么前面量產20nm已經夠夸張了，現在14nm都出來了？

    三年前就有了20nm級別的工藝！到現在才正式突破14nm，這其中可并不單單造出來就行了，還有著良品率等一系列問題來保證不會虧本，來保證有盈利！

    這其中要攻克的技術，要克服的難點只有他們這些一路走來的晶圓廠才心中清楚！

    而且看樣子是已經開始量產并備貨了！

    怎么可能這么快？

    前面20nm的產量就很夸張了？為何能這樣？

    隨著安布雷拉的duv光刻機逐漸到貨后，各方面也都開始發現了原因。

    看到還是干式光刻機其實他們都有點懵。

    本以為安布雷拉是也突破了浸潤光刻法才追上的，結果人家浸潤的技術都還沒用出來！

    純粹靠著強大的鏡頭硬生生的完成了彎道追趕。

    光源波長和各種參數都是擺在這里的，他們能夠輕易算出這臺光刻機極限精度達不到阿斯麥的水平。

    多次曝光也很難達到7nm極限。

    可是……

    “感覺這臺光刻機的良品率好高啊，我們還只是隨便組了一下試試，調試都沒用多久，良品率方面竟然就不比正常生產線要差了。”

    積電的工程師滿臉驚嘆。

    “是啊，就性價比來說，比目前阿斯麥的光刻機還要好，而且良品率方面恐怕能一直保持領先，雖說阿斯麥的光刻機極限能更高，但現在不還沒到這程度么……”

    相同的事也發生在測試的各處。

    極限差點，但更穩定，良品率高，效率高，產能高！

    這就是安布雷拉滿足了供貨的原因。

    出貨效率超過阿斯麥dua光刻機一倍多！

    這也是能一邊生產20nm芯片，一邊開始備貨14nm的原因！

    甚至可以預見，哪怕以后到了10nm的程度，也依然難不住他們，大概率安布雷拉自己的晶圓廠可能還能更快的達到這工藝。

    這簡直是難以置信！

    一瞬間抹平了差距，硬生生躋身第一梯隊。

    收購光刻機技術和晶圓廠才多久？

    就達到這種程度了？

    只能說不愧是安布雷拉嗎！

    一時間，大漂亮商務部制裁簡直制裁了個寂寞。

    這啪啪打臉不可為不響。

    可偏偏這時候大漂亮新聞發言人依然還有臉開口警告安布雷拉保持和東方的距離，不要賣過于先進的東西給他們。

    這種話簡直引起了一片嘩然。

    大哥，人家正在被你們制裁啊……

    ……
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