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    光刻膠是一種對光線、溫度、濕度十分敏感的材料，可以在光照后發(fā)生化學性質的改變，這是整個工藝的基礎。

    光刻膠有不同的類型，PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）、聚甲基戊二酰亞胺（PMGI）以及DNQ（酚醛樹脂）等材料都可以做光刻膠。據(jù)有關資料顯示，到2022年全球光刻膠市場市場價值將達到415億美元，年復合增長率5.5%——算起來這個市場比光刻機產(chǎn)值還要大得多，畢竟光刻膠是耗材。

    目前光刻膠市場上的參與者多是來自于美國、日本、韓國等國家，包括陶氏化學、杜邦、富士膠片、信越化學、住友化學、LG化學等等，天朝公司在光刻膠領域也缺少核心技術。

    但偏偏光刻膠技術卻是整個光刻工藝中最最核心的技術之一！想彎道超車都是絕對繞不過去的一個關鍵環(huán)節(jié)！

    其實，光刻膠這種產(chǎn)品早已有之，光刻膠被應用在印刷工業(yè)上已經(jīng)超過一個世紀了。但直到上世紀20年代，人們才發(fā)現(xiàn)它在印制電路板領域可以有廣泛的應用。半導體工業(yè)采納這種技術來生產(chǎn)晶圓是在20世紀50年代。在20世紀50年代末，Eastman  Kodak和Shipley公司分別出適合半導體工業(yè)需要的正膠和負膠。

    稍有歷史常識的人都知道，那個年月共和國才剛剛成立，這個本就戰(zhàn)亂不斷的國家卻在剛建國后又迎來了以美國為首的聯(lián)合國軍侵略同陣營的鄰國，美軍飛行員甚至一再越過邊境線挑釁新天朝政府，可偏偏那會兒國內僅有的一點兒工業(yè)基礎還是曰本人當初在偽滿建立的，這絕對是天朝政府不可能放棄的，所以才有了那樣血性的背水一戰(zhàn)……

    但彼時，也正是西方國家科技發(fā)展最快的時候！

    整個上世紀50~70年代里，西方國家，尤其是老牌資本主義強國的科技水平都獲得了質的飛躍，反觀好不容易建立起工業(yè)基礎的天朝，卻在這一輪科技發(fā)展高峰期中，被越甩越遠！

    像集成電路那么高大上的技術，雖然國家當時也從國防安全角度予以了跟進，但奈何本身思路的出發(fā)點不對，工業(yè)基礎相差更是相當懸殊，所以目前市場格局中電子化學品基本被國外壟斷也就沒什么好稀奇的了……

    知道現(xiàn)在國內光刻膠市場上的格局嗎？
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